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☆ ベンチャ−企業育成型 中小企業創造基盤型 提案公募の募集 について
研究開発型中小企業を対象に、新規事業分野の開拓につながる技術、生産効率を高める技術の開発を行う地域研究共同体（技術シ−ズを有する者を含むこと、総括研究代表者（民間企業経験者を可能な限り採用）、プロジェクト管理法人、中小企業複数社含む構成、アドバイザー費用を伴わない國研、ポストドクタ−の雇用、１テ−マ７千万円ほど、全国で５０件数ほど、２年間の研究期間）による提案公募の募集が、ちかじか行われる予定。興味ある人は四工研や通産局産業技術課へお問い合わせ下さい。
四国の工場立地は平成９年度は件数は４％台、面積で６％台であり、四国経済の実状に比べ、依然高レベルにあるといえる。９年中に新設、増設（生産施設面積１０００ｍ２以上）を届け出た３４事業所を対象に四国通産局が実施した「四国の元気事業所の活動動向調査」をもとに、好調な工場立地の要因を探った。３３事業所からの回答によると、
新設・増設の理由は「新たな事業展開」と「需要増への対応」の２つが群を抜いている。ベンチャ−スピリットや独自の技術に裏打ちされた既存市場を持つ事業所は、厳しい経済環境下でも企業活動を活発化していることがうかがえる。
四国通産局は四国地域経済構造改革推進協議会の最終報告書を掲載した冊子「新四国の道」を発刊した。 昨年７月から産学官の代表３９人が委員となり、四国の実状をふまえた経済構造改革の具体的方策を検討し、３月に最終報告書をまとめた。ベンチャ−企業の育成など四国発展のための戦略案を示しているほか、実現に向けた具体的プランも示している。
産業技術融合領域研究所（1997.11 VOL.5 NO.2）
「光合成タンパク質の分子組立」
「リボザイムの反応機構の解明と高機能人工リボザイムの創製」
計量研究所（1998.2 VOL.46 NO.2）
「単一周波数で発振するファイバレーザ」
計量研究所（1998.3 VOL.46 NO.3）
「計測分科会温度計測研究会の活動ならびに研究成果の紹介」
「物理標準の高度化に関する研究」
「機能材料の熱物性計測技術と標準物質に関する研究」
機械技術研究所（1997 No.12）
「人間共存型ロボットの機構と制御
−移動マニピュレータの撃力軽減制御−」
「セラミックスの平面−平面接触型高速摩擦試験」
「重力場および微小重力場における燃料噴霧の燃焼と観察」
機械技術研究所（1998 No.1）
「地電流多点観測における落雷の影響評価
−地震前兆現象のスマートセンシングを目指して−」
「バタフライ型ハンドによる物体の動的マニピュレーション」
機械技術研究所（1998 No.2）
「マイクロマニピュレーションシステムによる微小対象物の立体的接着組立」
「フィゾー干渉計における高精度縞解析」
「人頚椎（首）後方固定法の回旋強度」
機械技術研究所（1998 No.3）
「静的歩容を規範とした２足歩行型脚車輪ロボットの階段昇降制御」
「機械技術研究所におけるITSに関する研究」
「マイクロラマン法による薄膜の残留応力測定」
物質工学工業技術研究所（1998.1 No.29）
「平坦な表面を有する導電性酸化物膜のエピタキシャル成長」
「電子がリング状に放出
−−−多層カーボンナノチューブの電子放出特性」
物質工学工業技術研究所（1998.3 No.30）
「ダンベル型糖脂質による超分子繊維形成」
「可逆的な金の溶解・析出」
「酸化チタン光触媒微粒子の電子移動反応」
「爆薬でPCB類似化合物を瞬時に分解」
大阪工業技術研究所 （1998.2 VOL.42 2）
「多角柱状組織（プリズマチックストラクチュアー）をもつセラミックス材料
−構造制御による新しい複合セラミックス−」
「新規研究開発プロジェクト『分子協調材料』始動
−物質の中間状態（メソフェーズ）を開拓する−」
大阪工業技術研究所 （1998.3 VOL.42 3）
「酸化物イオン導電性材料開発の新規領域の開拓
−ホタル石からペロブスカイトへ−」
「水素を還元剤とした窒素酸化物の除去
−100℃と300℃で働くパラジウム触媒−」
生命工学工業技術研究所 （1998.3 VOL.6 No.2）
「分子生物部の目指すところ」
電子技術総合研究所（1997.11 NO.574）
「フェムト秒レーザーの位相雑音測定法を開発
−位相復調を利用したパルスタイミング揺らぎの高精度計測−」
「超伝導体における電流-電圧特性､電流分布の新たな評価法
−履歴磁化の磁場掃引速度依存性−」
電子技術総合研究所（1997.12 NO.575）
「超音波による肝繊維化量の定量診断をめざして」
電子技術総合研究所（1998.2 NO.577）
「太陽光発電システムの解析のため､つくば市の面平均日射を観測中」
「波長1.3μmにおけるフェムト秒光パルス発生」
電子技術総合研究所（1998.3 NO.578）
「大型逆磁場ピンチ実験装置TPE-RXの本体負荷コイルの完成」
「拡張可能プリプロセッサキットEPPの開発」
資源環境技術総合研究所 (1998. 2)
「LCA（ライフサイクルアセスメント）の研究
−環境に調和する技術・製品の開発のために−」
資源環境技術総合研究所 (1998. 3)
「新しい凝集処理を目指して
−酵素併用凝集処理と新機能性凝集剤GellannicＲ−」
北海道工業技術研究所（1998.3 VOL.5 NO.6）
「金属超微粒子を使ったシリコン系プラスチックス膜の合成」
東北工業技術研究所（1998.1 18）
「膨潤性層状珪酸塩の結晶モデリングと吸着機構の解明に関する研究」
「湿式精錬技術による使用済みリチウムイオン二次電池からのレアメタルの回収」
中国工業技術研究所（1998.3 No.92）
「海洋生態系機能を利用した海洋環境の修復技術」
「新しい水素脆化『水素誘起析出脆化』」
環境庁国立環境研究所 地球環境研究センター （1997.12 VOL.8 NO.9）
「京都議定書採択！気候変動枠組条約第３回締約国会議（京都会議、COP3）報告」
重要地域技術開発「非整備環境における作業支援のための特徴認識技術」に関する研究が平成１０年度（〜平成１２年度）開始されました。四国地域の重要な研究開発課題について、四国工業技術研究所、大学、企業、公設試が産学官の共同研究体制をとり、推進するものです。
標記の先端工業展がサンメッセ香川（香川県高松市林町2217-1）で開催されます。
四国工業技術研究所から次の展示パネル、及びポスター発表会を行ないます。
展示パネル：電池用酸化物薄膜研究、無機イオン交換体の開発、キチンの生理活性研究、海藻成分の糖鎖認識研究、レ−ザ・ア−ク併用溶接法、形状特徴認識研究
ポスター発表会： ５月３０日（土）
○層状リン酸チタンのリチウム同位体分別における吸着量及び吸着温度依存性
○ゾル−ゲル法によるリチウムクロロボライトの合成と導電特性
○海洋藻類由来有用糖複合体の検索・抽出
○太陽追尾による発電量の増加効果
○レ−ザによる溶接ア−クの制御
○ C O ２ 固定化クロレラと P V C による複合成形材料の開発
通産省工業技術院の創立５０周年記念して、四国工業技術研究所の技術交流推進センターが産学官連携推進センターに改称したのを機会に、標記のキャンペーン行事を開催します。 当所関連では、次の行事を計画しております。 四国工業研究会の後援をえて行います。 どうぞ、お気軽に来所し、ご参加ください。
○高校生・市民へのバイオセミナー ７月２３、２４日 10:00- 於 丸亀町レッツ
○高校生の科学体験サマーセミナー ７月２８日（火）午後 於 四工研
○技術相談（来所・電話による相談）７月２９ー３０日 10:0- 於 四工研
○四国工業技術研究所平成１０年度研究発表会 ７月３０日（木） 於 四工研
○所内公開 ７月３１日（金）10:00- 展示品、ビデオ、所内案内 於 四工研
通商産業省工業技術院では、重要地域技術開発制度に基づき、市国地域において四国工業技術研究所を中心として、主に中小企業を対象とした地域大型プロジェクトとして、今年度から３年間の計画で「非整備環境における作業支援のための特徴認識技術」の研究開発を進めることとし、研究開発の方向を下記の通り策定した。
１．研究開発期間
平成１０年度から３年間
２．研究開発の実施場所
本研究開発の実施場所は、原則として四国地域とする。
３．研究開発の目的
工場内のような整備された環境とは異なり、種々の外乱要因の存在する屋外や水中環境等の非整備環境に適合した非接触計測による三次元画像処理技術、移動物体の追跡技術等の高速度、高精度の位置、形状認識技術を研究開発する。これによって屋外や海中等の非整備環境における重量物運搬、熱加工、外観検査等の熟練を要し、自動化が進展していない領域での人間の作業を支援し、高齢者や非熟練者にやさしい自動化技術の開発に資する。
４．研究開発の目標
（１）屋外作業支援のための特徴認識技術を開発する。
（２）水中作業等の自動化のための特徴認識技術を開発する。
５．研究開発の内容
（１）屋外作業支援のための特徴認識技術の開発
@外乱下における静止作業対象の位置検出・形状認識技術
A移動作業対象の位置検出・形状認識・挙動追跡技術
（２）水中作業等の自動化のための特徴認識技術の開発
@音響情報を利用した形状認識技術
A水中溶接作業等の自動化のためのセンシング技術
６．研究開発の方式
（１）屋外作業支援のための特徴認識技術の開発
@屋外の外乱下での画像処理による静止作業対象の位置検出・形状認識技術の開発を行い、作業自動化への適応性を評価する。
A移動作業対象の運動予測を盛り込んだ画像処理を行い、高精度な位置検出、形状認識、挙動追跡技術を開発する。
（２）水中作業等の自動化のための特徴認識技術の開発
@超音波センサによる形状認識技術を確立し、超音波アレイセンサを用いた三次元形状の高速度計測技術を開発する。
A水中溶接・検査の自動化に必要不可欠なアーク光等の高強度外乱下での特徴認識技術の開発を行う。
平成10年度に開始する下記の研究開発テーマについて、工業技術院四国工業技術研究所と共同研究を実施する相手先を公募いたします。
なお、共同研究希望者に対する説明会を開催しますので、併せてお知らせします。
１．研究開発テーマ
非整備環境における作業支援のための特徴認識技術
２．共同研究対象企業 主に中小企業
３．提案書提出要領
１）提案書様式
工業技術院四国工業技術研究所説明会にて配布
２）提出先
同研究所企画課
３）提案書提出締切
平成10年６月29日（月）17時まで
４．共同研究希望者に対する説明会
日時 平成10年６月12日（金）13時30分〜15時
場所 四国工業技術研究所
〒761-0395 高松市林町2217-14
TEL 087-869-3511 FAX 087-869-3551
平成１０年７月３０日 １０：００〜１７：００ 於 四国工業技術研究所
○ 午前の部 １０：００ー１２：００
１.バイオ講演会 １０：００ 〜１２：００
○ 午後の部 １３：３０ー１７：００
２.重要地域技術研究開発「高機能製品の表面加工技術」
重要地域技術研究開発プロジェクト（Ｈ５−Ｈ９）共同研究に参加された四国工 業技術研究所はじめ参加機関による成果発表
３.四国工業技術研究所 研究成果発表会
４.広域共同研究中間成果発表会
「天然素材の高機能食品製造技術」（Ｈ８−Ｈ１０）の参加機関による中間成果 発表会
最近の講演会情報から。
@ 高温高圧流体技術に関する調査報告会 ５月２９日（金）13：20〜16:40
於サンメッセ香川（２階中会議室） 主催 高温高圧流体技術研究所
高機能化・リサイクル技術 大倉工業（株）研究所 梶谷孝啓 氏
（株）クボタ 技術開発研究所 加藤正滋 氏
光触媒の製造・応用技術 名古屋工業技術研究所 環境技術研究室長 垰田博史 氏
マイクロ波の利用技術 四国工業技術研究所 加藤 俊作 氏
参加費：無料 、 参加申込先：高温高圧流体技術研究所（TEL 087-869-4406）
A トップセミナ− ６月４日（木）13:50-15:00
於 ホテル川六 主催 （財）四国産業・技術振興センタ−
「産官学の共同研究」 元東京工業大学長
現高知工科大学長 末松 安晴 氏
問合せ・申込先：（財）四国産業・技術振興センタ− ( TEL 087-851-7025 )
B 高温高圧流体技術講演会 ６月２４日（水）13:30〜16:30
於 香川産業頭脳化センタービル２階研修室 主催 高温高圧流体技術研究所
マイクロ波ーソルボサーマル・プロセッシング
高温高圧流体技術研究所 研究顧問 加藤俊作 氏
Aqueous Hydrocarbon溶剤の開発はなぜ必要かー超臨界水プロセスと石炭液化プロセスとの比較ー
高温高圧流体技術研究所 所長 小郷良明 氏
参加費：会員無料、非会員3,000円（学生は無料）
参加申込先：高温高圧流体技術研究所（TEL 087-869-4406） ６月１９日締切。
C 紙パルプ講演会 ６月２５日（木）13:50〜17:00
於 四国工業技術研究所 主催 四国紙パルプ研究協議会
天然からスクリーニングした菌によるダイオキシンのバイオレメデイエーション
愛媛大学 農学部 伊藤和貴 氏
環境保全につながるリサイクルボードの生産 エムアイケーボード（株）赤松 勲 氏
チリにおける植林 大王製紙（株） 谷村 潔 氏
王子製紙における環境保全ヘの取組み 王子製紙（株） 大竹利則 氏
参加申込先：四国紙パルプ研究協議会事務局 (TEL 087-869-3511)
６月１８日締切。
○平成１０年度（第29回）中堅・中小企業新機械開発賞
中堅・中小企業において革新性の高い機械の技術開発を行い、その成果を実用化し、機械工業の技術進展に著しく貢献した方を表彰しております。
募集期間： ６月中旬から７月末
問合せ先：（財）機械振興協会 技術研究所 (TEL 0424-75-1157, FAX 0424-76-4870 ）
○第１３回素形材産業環境優良工場表彰
作業環境（音、光、塵、熱、臭、整頓）、立地環境（公害防止、景観）、地球環境保全（ＣＯ２、有害物質規制、省資源、省エネ）など環境改善が著しい工場、工場周辺地域との調和に効果をもたらしている工場を表彰する。 大臣賞、局長賞、センター会賞
素形材産業の範囲は、鋳造、ダイカスト、鍛造、金属プレス加工、粉末冶金の素形材、及びこれらと関連する機械、金型、木型、熱処理、バルブ、鉄管継手、作業工具等の産業
募集期間： ６月２６日締め切り
提出先：（財）素形材センター (TEL 03-3434-3907, FAX 03-3434-3698 )
○新技術・新研究
工業技術院の先導研究 ９８年度から８テ−マ追加（日経産業98.2.10 (20)〜2.24）
・コ−ルドエミッションデイスプレイ： 次世代のデイスプレイの開発
・インテリジェントファイバ： 分子構造そのものの制御による新機能発現
・オゾンで汚染水効率浄化： 生物分解、UV＋オゾン
・三次元表面加工技術： プラズマイオン注入で軽量薄型高強度材料開発
・マイクロ粒子制御プロセス： 気−固変化の微粒子状態からの制御で新材料開発
・景観向上技術： 人間の５感の評価技術を確立し、風合のある豊かな都市環境作り
・ｽ-パ-ｺﾝパｲﾗ-ﾃｸﾉﾛジ：クラスタ−技術の高度化をし、コンピュタ−の高速化と応用を。
科学技術庁の戦略的基礎研究ー新規の目標決まる ６月20日締切 (日本工業98.4.30 )
・電子・光子などの機能制御（研究統括：菅野卓雄 東洋大学長）
・分子複合系の構築と機能（櫻井英樹 東京理科大学）
・ゲノムの構造と機能（大石道夫 かずさＤＮＡ研究所長）
・資源循環・エネルギーミニマム型システム技術（平田賢芝浦工業大学）
破壊しにくい強靱なセラミックスを開発
−大工研は貝殻を模倣／名工研は不純物を活用(化学工業時報 H10.3, NO.2331）
青色半導体レーザー基板に窒化ガリウム、連続発振達成ー日亜化学（日刊工業98.4.28）
２次元３次元融合ＣＡＤ機械設計に開発ー富士通（日刊工業98.5.4）
○光触媒
酸化チタンで環境浄化−98年度から香川県５公設試の共同研究−（日刊工業98.2.19）
二酸化チタンにアパタイト層を作った粉末・繊維を開発−名工研 (日刊工業98.3.2）
舗装ブロック表層の光触媒で大気中から NO X除去（習志野市）ー三菱マテリアル （日経産業98.4.7）
光触媒をフッ素樹脂に塗工し半永久的フイルター仕様にー日東電工（日経産業98.4.30）
○環境関連
高温酸性ガスのﾊｲドﾛｿ-ダﾗｲﾄによる固定化ー９社と研究組合を名工研（日刊工業98.3.20)
キリン・仕込粕の殻皮を名刺、蛋白を魚の餌、保水部を茸人工土壌に（日経産業98.4.7）
廃プラシートの粉砕後セメント燃料にートクヤマ (日本工業98.4.21 )
魚の養殖場の汚泥をイトゴカイが有効に浄化ー香川大学農（日刊工業98.4.22)
炭酸ガスを吸収・放出する Li-Zr酸化物セラミックス開発ー東芝（日経産業98.4.23）
環境ホルモンの生物に及ぼす影響を３年計画で研究ー科技庁（日刊工業98.4.17）
前処理無しに、散乱スペクトルで水質検査５項目ー京都大学工（日刊工業98.4.16）
○無機化合物・ 粉体製造
高制震性材料開発に必要な均質混合粉体を作るためのマイクロ粒子の形態制御プロジェクト開始ー工技院（日刊工業98.5.1）
紫外線で粉体を殺菌ーバルク工機が開発（日本経済98.4.14）
花火をポリマ−で成形、ロケット推進役の技術を応用−物質工研 (日本工業98.4.22)
無機抗菌剤の輸出拡大、米国ＦＤＡに販売許可を申請ーシナネン(日経産業98.4.23）
○バイオ・食品技術
キリン・各種ウイルス耐性カーネーション栽培実験開始（日経産業98.4.2）
振りかけ納豆ーからし風味は独特の ワサビからー大森屋 （日経産業98.4.2）
卵に直接印字：トーメン米国製インクジエットプリンター（日刊工業98.4.9）
遺伝子解析用ジーンチップ：米国のバイオのインテル （日経産業98.4.9）
グルコース濃度を遺伝子改変した酵素センサ１台で広範囲に測定 （日経産業98.4.8）
食品物性を３次元測定し人間の食感に近い測定値ー京都大学食糧研（日刊工業98.5.8）
ヒトゲノム計画ーｃＤＮＡプロジェクトー次世代ゲノム計画浮上ー宮田満（日経産業98.4.17）
○人間工学
テレビ用字幕スーパー難聴者向け配信ー飯田電子（日刊工業98.4.14）
音声機能付き電磁調理器ー高齢者、障害者用に （日経産業98.4.8）
パチンコのフイーバーで快感物質が血液に分泌ー東京理科大（日刊工業98.4.14）
人間感覚機能を測定、指標の体系化（研究の最終年度）ー人間生活工学センター（日刊工業98.4.24）
○ベンチャー支援
理研 研究者の特許権の実用化ＶＢを支援６件６社（日本工業98.4.1）
中小企業の環境ＩＳＯ取得支援今年度応募は６件ー東京都 （日本工業98.5.13）
全特許 4000万件 来年３月にインターネットで無料公開ー特許庁（日経産業98.5.12）
四国工業研究会の平成１０年度総会・役員会・講演会・懇親会を平成１０年７月２日（金）に、四国工業技術研究所において開催します。 ご多忙中とは存じますが、多数ご参加下さいますようご案内申し上げます。
日時 平成１０年７月２日（木） 於 四国工業技術研究所
役員会 １２：００ー１４：００
総会 １４：１０ー１５：１０
講演会 １５：２０ー１６：５０
懇親会 １７：００ー１７：４０
講演会 演題：「技術開発支援制度について」
講師：四国通商産業局 産業部 産業技術課長 橋本 誠一氏
事業の発展、新規事業への展開等において重要な技術開発、研究開発に対する支援制度を詳しく紹介していただきます。
平成１０年度 行事予定（案）
○研究会活動
講演会 不定期、早く案内を発送します。
分野別研究会
若手研究者の会 研究発表会の時、工場見学会の時などに計画します。
○交流会活動
トップ懇談会
○講習会活動
工場見学会
分析等講習会
○ 情報広報活動
レター発行
会誌発行
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平成１０年５月 発 行 四国工業研究会
電 話 (087）869-3511（代）
ＦA X (087）869-3554
編 集 上嶋 洋 所在地 〒761-0395 香川県高松市林町2217番14
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